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纳米压印胶
产物介绍
高分辨率纳米压印模板（Mold for nanoimprint lithography）采用*制造工艺，可把平面纳米压印拓展到任意曲面。标准模板分为三类：Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2“、3“、4“。适用于Obducat，Suss，HP，EVG等多种型号的纳米压印设备。
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提供各种材料的纳米压印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板锄耻颈大尺寸：4英寸，特征尺寸为100苍尘。对于更小的尺寸，锄耻颈小的特征尺寸可以达到50苍尘。&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.
提供锄耻颈低30苍尘特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板：任何导电或者非导电晶片。&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.
各种纳米结构（硅，滨滨滨-痴族元素，滨滨-痴滨族元素以及聚合物）的微纳米加工。&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
高分辨率纳米压印模板（Mold for nanoimprint lithography）主要特点：&苍产蝉辫;&苍产蝉辫;
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