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  • 全自动步进重复式激光干涉光刻机

    全自动步进重复式激光干涉光刻机 VIL 1000纳米光刻系统具有全自动光路重构、动态锁相、高精度步进重复曝光等强大功 能。在放置旋涂好光刻胶的 晶圆后,无需任何手动设置或调整,我们的自动化系统可以在2 cm×2 cm的曝光区域内 (曝光区域还可定制其他尺寸及形状)实现纳米尺度的一维光栅或二维阵列的加工。所制 备纳米结构的周期涵盖240 nm到1500 nm的区间范围,

    更新时间:2024-06-17
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  • 痴滨尝1000激光干涉光刻机

    痴滨尝1000激光干涉光刻机 VIL系列纳米图形系统(激光干涉光刻机)具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光,在8英寸大面积上产生各种纳米结构,例如1D光栅线和2D柱/孔图案,周期从240 nm到1500 nm。

    更新时间:2024-06-17
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